| 1 | Aluminium oxide 박막의 reactive ion etching 특성 = A study on the reactive ion etching properties of aluminium oxide thin filmslink 김재환; Kim, Jae-Whan; et al, 한국과학기술원, 1992 |
| 2 | Atomic Layer Deposition of TiN Thin Films by Alternate Supply of Tetrakis (ethymethylamino)-Titanium and Ammonia Min, Jae-Sik; Son, Young-Woong; Kang, Won-Gu; Chun, Soung-Soon; Kang, Sang-Won, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, v.37, no.0, pp.4999 - 5004, 1999 |
| 3 | Blanket 텅스텐 증착에 있어서 $WF_6$-$SiH_4$-$H_2$ 혼합기체와 TiN Glue Layer 간의 초기 반응에 관한 연구 = A study on the initial reactions of $WF_6$-$SiH_4$-$H_2$ gas mixture with TiN Glue Layer for Blanket tungsten depositionlink 이영종; Lee, Young-Jong; et al, 한국과학기술원, 1994 |
| 4 | CVD Cu 박막의 특성에 열처리 온도가 미치는 영향 = The effects of the annealed temperature on properties of CVD Cu filmslink 민재식; Min, Jae-Sik; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 5 | ECR PECVD법을 이용한 ULSI DRAM Capacitor용 (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ 박막의 제조 및 특성 평가 연구 = Fabrication and characterization of ECR PECVD (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ thin films for the charge storage capacitors of ULSI DRAMlink 신중식; Shin, Joong-Shik; 이원종; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1997 |
| 6 | ECR 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 PZT 박막의 미세구조에 관한 연구 = The study of the microstructure of the PZT thin film deposited by ECR PECVDlink 정수옥; Chung, Su-Ock; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 7 | ECR-PECVD PZT 박막의 FRAM 소자로의 응용에 관한 연구 = The study on the applicaions to FRAM with PZT thin film fabricated by ECR-PECVDlink 정수옥; Chung, Su-Ock; 이원종; 천성순; et al, 한국과학기술원, 2000 |
| 8 | ECR-플라즈마 화학 증착법에 의해 탄탈륨 산화 박막 제조시 증착 변수 및 열처리 조건이 증착층의 전기적 성질에 미치는 영향 = The effects of the deposition variable and annealing condition on the electrical properties of the Ta2O5 thin films deposited by ECR-PECVDlink 조복원; Cho, Bok-Won; et al, 한국과학기술원, 1994 |
| 9 | Fe-base 및 Ni-base alloy 위에 증착된 TiN 박막의 증착특성 및 전기화학적 특성 = Deposition characteristics and electrochemical properties of TiN films deposited on Fe-base alloy and Ni-base alloylink 인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 10 | Glue layer TiW sputtering 조건이 저압 화학 증착 방법에 의해 증착된 텅스텐 박막의 성질에 미치는 영향에 관한 연구 = A study on the effect of sputtering conditions of glue layer TiW on the properties of LPCVD-W filmslink 박진성; Park, Jin-Seong; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 11 | Improved Copper Chemical Vapor Deposition Process by Applying Substrate Bias Park, Chong-Ook; Lee, Won-Jun; Rha, Sa-Kyun; Lee, Seung-Yun; Kim, Dong-Won; Chun, Soung-Soon, 1996 MRS Spring Symposium, v.427, pp.207 - 212, 1996-04-08 |
| 12 | Inconel 600 위에 증착된 PACVD-TiN의 증착특성 및 전기화학적 성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics and the electrochemical properties of PACVD-TiN deposited on inconel 600link 김상표; Kim, Sang-Pyo; et al, 한국과학기술원, 1994 |
| 13 | Li과 Ti 이온을 함유한 운모 결정화 유리에 관한 연구 = Crystrallization of mica in Li-and Ti-containing galsseslink 백동수; Baik, Dong-Soo; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 14 | MBE 방법으로 증착된 $Si_{1-x}Ge_x$ 박막의 응력완화에 관한 연구 = A study on the strain relaxation of $Si_{1-x}Ge_x$ thin deposited using molecular beam epitaxylink 임정욱; Lim, Jung-Wook; et al, 한국과학기술원, 1996 |
| 15 | MOCVD 법에 의한 Y-Ba-Cu-O 박막 증착시 증착온도가 미세구조에 미치는 영향 = The effect of deposition temperature on the microstructure of metal-organic chemical vapor deposited Y-Ba-Cu-O filmlink 조창현; Cho, Chang-Hyun; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 16 | MOCVD 법으로 증착된 $Y_1Ba_2Cu_3O_{7-x}$ 박막의 에칭특성에 관한 연구 = A study on etching properties of metal organic chemical vapor deposited $Y_1Ba_2Cu_3O_{7-x}$ thin filmlink 황두섭; Hwang, Doo-Sup; et al, 한국과학기술원, 1992 |
| 17 | MOCVD법에 의한 YBaCuO 박막 증착 및 그 응용에 관한 연구 = Study on the deposition and application of MOCVD YBaCuO thin filmlink 조창현; Cho, Chang-Hyun; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 18 | MOCVD법에 의해 제조된 YBCO 박막의 초고주파 영역에서의 표면저항과 수동소자 제작에 관한 연구 = A study on the microwave surface resistance of YBCO film deposited with MOCVD method and fabrication of microwave passive devicelink 김영근; Kim, Young-Keun; et al, 한국과학기술원, 1996 |
| 19 | MOCVD법에 의해 제조된 고온초전도 $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ 박막의 물성에 관한 연구 = The study on the properties of high Tc superconducting $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ thin films prepared by metal organic chemical vapor depositionlink 김상호; Kim, Sang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1992 |
| 20 | PLD 법을 이용한 $YBa_2Cu_3O_x$ 고온 초전도체의 증착특성에 관한 연구 = A study on deposition of $YBa_2Cu_3O_x$ high temperature superconductor by PLDlink 황두섭; Hwang, Doo-Sup; et al, 한국과학기술원, 1996 |
| 21 | $Si_3N_4$-TiC Ceramic 에 TiC,Ti(C,N),TiN의 화학증착에 관한 연구 = A study on the chemical vapor deposition of TiC,Ti(C,N),and TiN on $Si_3N_4$-TiC ceramiclink 김동원; Kim, Dong-Won; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 22 | $Si_3N_4$-TiC ceramic 에 Titanium carbide의 화학증착에 관한 연구 = The effects of deposition variables on the chemical vapor deposition of TiC onto $Si_3N_4$-TiC compositelink 박영진; Park, Young-Jin; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 23 | Silicon nitride 화학 증착에서 증착 기구와 계면 전하 및 trap density 에 관한 연구 = A study on the chemical vapor deposition of silicon nitride and the characteristics of interfacial charge and trap densitylink 이경수; Yi, Kyoung-Soo; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 24 | STD11, SKH9 공구강에 화학증착된 Titanium nitride 의 증착특성, 미세조직 및 기계적 성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics, microstructures, and mechanical properties of chemically vapor deposited TiN on STD11, SKH9 tool steelslink 김시범; Kim, Si-Bum; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 25 | (The) effect of iron addition on the microstructures and mechanical properties of Cu-11.0% Al alloy = Cu-11.0% Al합금에의 철 첨가가 현미 경조직과 기계적 성질에 미치는 영향link Yeum, Kook-Sun; 염국선; et al, 한국과학기술원, 1976 |
| 26 | Ti 박막으로 부터 급속 열처리에 의한 $TiSi_2$ 형성에 관한 연구 = A study on the formation of $TiSi_2$ from thin Ti film by rapid thermal processlink 강상원; Kang, Sang-Won; 천성순; 박신종; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 27 | TiC 화학증착과 TiN 플라즈마 화학증착의 증착기구 및 증착층의 특성에 관한 연구 = The deposition characteristics and structural properties of TiC deposited by chemical vapour deposition and TiN deposited by plasma enhanced chemical vapour depositionlink 장동훈; Jang, Dong-Hoon; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 28 | TiN Glue Layer위에 화학증착된 텅스텐박막에 관한 연구 = A study on the tungsten films prepared by LPCVD on TiN glue layerlink 장규환; Chang, Kyu-Hwan; et al, 한국과학기술원, 1992 |
| 29 | Via-hole filling을 위한 텅스텐 저압화학증착에 관한 연구 = A study on the low pressure chemical vapor deposition of tungsten for via-hole fillinglink 김일; Kim, Il; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 30 | 공구강에 화학증착된 Titanium carbide 의 증착특성 및 기계적 성질에 관한 연구 = A study of chemical vapor deposition of TiC on high alloyed steels and mechanical properties of deposited TiClink 강창진; Kang, Chang-Jin; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 31 | 공구강위에 플라즈마 화학증착, Cathodic arc ion plating 및 DC reactive magnetron sputtering한 TiN 박막의 물성에 관한 연구 = A study on the properties of Tin coatings by plasma assisted CVD, cathodic Arc ion plating and DC reactive magnetron sputtering on SKH9link 정병진; Jeong, Byeong-Jin; et al, 한국과학기술원, 1992 |
| 32 | 금속 유기 화학 증착법에 의해 증착된 구리 박막의 증착 및 물성에 관한 연구 = A study on the deposition and the film characteristics of MOCVD copper thin filmslink 윤수식; Yoon, Soo-Sik; et al, 한국과학기술원, 1996 |
| 33 | 단결정 Si 표면에의 $Al_2O_3$ 화학증착에 있어서 반응변수가 증착속도 및 표면형상에 미치는 영향에 대한 연구 = The effects of deposition variables on deposition rate & morphology in the chemical vapor deposition of $Al_2O_3$ onto silicon single crystallink 김철; Kim, Chul; et al, 한국과학기술원, 1983 |
| 34 | 분자선 성장법에 의한 갈륨비소 전력소자의 공정 및 전기적 특성 분석에 관한 연구 = A study on GaAs MBE-grown power device and its electrical charateristicslink 맹성재; Maeng, Sung-Jae; et al, 한국과학기술원, 1996 |
| 35 | 분할 화학증착방법으로 증착된 알루미늄 박막의 선택성 및 표면 morphology 개선에 관한 연구 = A study on the improvement of the selectivity and surface morphology of al thin film by cycle chemical vapor depositionlink 안상덕; Ahn, Seong-Deok; 강상원; 천성순; et al, 한국과학기술원, 2000 |
| 36 | 비정질 실리콘 카바이드 화학증착 공정의 수치모사화 및 광학적, 전기적 특성연구 = A study on the process simulation and the properties of deposited a-SiC films in chemical vapor depositionlink 박영진; Park, Young-Jin; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 37 | 열처리 조건이 ECR plasma 화학 증착법으로 증착된 tantalum oxide 박막의 물성에 미치는 영향 = The effects of annealing conditions on the properties of tantalum oxide thin films deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor depositionlink 권오승; Kwon, Oh-Seung; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 38 | 용접 구조용 Al-Zn-Mg 합금 용접부의 저주파 피로 특성에 관한 연구 = A study on the low-cycle fatigue behaviors for Al-Zn-Mg alloy weldmentslink 성완; Sung, Wan; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 39 | 유기금속화학증착법에 의한 GaAs 와 $Al_xGa_{1-x}$As 의다층에피 성장 = Multilayer epitaxial growth of GaAs and $Al_xGa_{1-x}$ by metalorganic chemical vapor depositionlink 김무성; Kim, Moo-Sung; et al, 한국과학기술원, 1986 |
| 40 | 전자빔 손상이 n-MOSFET의 전기적 특성에 미치는 영향 = Effects of electron beam damage on the electrical characteristics of n-MOSFETslink 전영진; Jeon, Young-Jin; et al, 한국과학기술원, 1994 |
| 41 | 코발트계 박막합금의 비정질형성범위와 자기적성질에 관한 연구 = Glass forming range and magnetic properties of Co-base thin film alloyslink 김희중; Kim, Hi-Jung; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 42 | 텅스텐 박막의 저압화학 증착 기구 및 증착층의 특성에 관한 연구 = A study on the mechanisms of tungsten low pressure chemical vapor deposition and the characteristics of the deposited layerlink 박흥락; Park, Heung-Lak; 천성순; 남수우; et al, 한국과학기술원, 1989 |
| 43 | 티타늄 첨가 동합금을 Brazing filler 로 사용한 질화규소와 철강의 접합기구 = Bonding mechanism between $Si_3N_4$ and steel using titanium added copper alloy as a brazing fillerlink 김대훈; Kim, Dae-Hun; 천성순; 황선효; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 44 | 플라즈마 화학 증착법에 의하여 증착된 TiN,TiCxNy 박막의 증착 특성 및 물성에 관한 연구 = The study on the deposition characteristics and properties of the TiN and TiCxNy coatings by plasma assisted chemical vapor depositionlink 김시범; Kim, Si-Bum; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 45 | 플라즈마 화학증착된 Aluminum oxide 박막의 $CF_4$와 $CC1_4$ 플라즈마에서의 Reactive ion etching 특성 = The $CF_4/CC1_4$ reactive ion etching properties of aluminum oxide films deposited by PECVDlink 김형석; Kim, Hyung-Suk; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 46 | 플라즈마 화학증착된 TiN 박막의 분산분석에 의한 증착특성 및 기계적성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics by analysis of variance and mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 47 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 48 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 박막의 에칭 특성에 관한 연구 = A study on etching properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 정진기; Jung, Jin-Ki; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 49 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 절연박막의 특성에 관한 연구 = A study on the properties of the aluminum oxide dielectric films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 강창진; Kang, Chang-Jin; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 50 | 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 기억소자용 고유전 탄탈륨 산화박막에 관한 연구 = PECVD $Ta_2O_5$ dielectric thin films for memory deviceslink 김일; Kim, Il; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 51 | 플라즈마 화학증착법에 의해 증착된 알루미늄 산화막의 증착 기구와 전기적 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and the electrical properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 52 | 화학증착법에 의한 $SnO_2$의 증착기구 및 전기적성질에 관한 연구 = The deposition mechanism and electrical properties of $SnO_2$ by chemical vapor depositionlink 김광호; Kim, Kwang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1986 |
| 53 | 화학증착법에 의해 제조된 Blanket 및 selective 텅스텐박막의 물성에 관한 연구 = The study on the properties of blanket and selective tungsten prepered by CVDlink 박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 54 | 화학증착에 의한 Silicon carbide 증착층의 증착기구및 기계적 성질에 대한 연구 = A study on deposition mechanism and mechanical property of silicon carbide layer by chemical vapor depositionlink 소명기; So, Myoung-Gi; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 55 | 화학증착한 비정질 SiC의 결합구조와 광금지대 및 비저항특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the bond structure, optical band gap and resistivity of chemical vapor deposited amorphous silicon carbidelink 박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1988 |
