Browse "MS-Theses_Master(석사논문)" by Author 강상원

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(A) Study on Effects of Thickness and Preferred Orientation on Dielectric Constant of Hf-Aluminate Film Deposited by PEALD = PEALD법으로 증착된 Hf-Aluminate 박막의 두께와 우선배향성이 유전상수에 미치는 영향에 관한 연구link

Moon, Hyoung-Seok; 문형석; et al, 한국과학기술원, 2008

2
(A) study on the $HfO_2/Al_2O_3$ nanolaminated thin film by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법으로 증착된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Cha, Eun-Soo; 차은수; et al, 한국과학기술원, 2005

3
(A) study on the $La_2O_3$ and La-Al-O films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법을 이용한 $La_2O_3$ 및 La-Al-O 박막의 Gate 절연체 특성에 관한 연구link

Kim, Ji-Hye; 김지혜; et al, 한국과학기술원, 2009

4
(A) study on the $TiO_2/Al_2O_3$ thin film for DRAM capacitor dielectric by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법을 이용한 $TiO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 DRAM capacitor 절연체 특성에 관한 연구link

Jeon, Woo-Jin; 전우진; et al, 한국과학기술원, 2007

5
(A) study on the atomic layer deposition of Ir and $IrO_2$ thin films = Iridium과 Iridium Oxide 박막의 ALD 증착 및 특성에 관한 연구link

Kim, Sung-Wook; 김성욱; et al, 한국과학기술원, 2007

6
(A) study on the atomic layer deposition of Ru and $RuO_2$ thin films = Ruthenium과 ruthenium oxide 박막의 ALD 증착과 특성에 관한 연구link

Kim, Jae-Hoon; 김재훈; et al, 한국과학기술원, 2003

7
(A) study on the characteristics of TaN films deposited by ALD using hydrogen plasma = 수소 플라즈마를 이용한 ALD 법으로 증착된 TaN 박막 특성에 관한 연구link

Lee, Min-Jung; 이민정; et al, 한국과학기술원, 2001

8
(A) study on the characteristics on TiN films deposited by PEALD using $TiCl_4$ = PEALD법으로 증착된 TiN 박막 특성에 관한 연구link

Kwon, Jung-Dae; 권정대; et al, 한국과학기술원, 2002

9
(A) study on the deposition mechanism and characteristics of $Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition using TMA and IPA = TMA와 IPA를 이용해 ALD법으로 증착된 $Al_2O_3$ 박막의 증착 기구와 특성에 관한 연구link

Yang, Sung; 양성; et al, 한국과학기술원, 2000

10
(A) study on the fabrication and characteristics of ruthenium nanocrystal formed by atomic layer deposition = 원자층 증착법을 이용한 루테늄 나노크리스탈의 증착과 전기적 특성에 관한 연구link

Oh, Heung-Ryong; 오흥룡; et al, 한국과학기술원, 2008

11
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of $SrTiO_3$ thin films = PEALD 법으로 증착된 $SrTiO_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Kim, Ja-Yong; 김자용; et al, 한국과학기술원, 2003

12
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of RuTiN thin films = PEALD 법으로 증착된 RuTiN 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Kwon, Se-Hoon; 권세훈; et al, 한국과학기술원, 2004

13
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of TaN thin films = Peald 법으로 증착된 TaN 박막 특성에 관한 연구link

Chung, Hoi-Sung; 정회성; et al, 한국과학기술원, 2004

14
(A) study on uniformity of polishing rate in the chemical-mechanical polishing(CMP) of SiO2 thin film = 실리콘 산화막 CMP에서 연마속도 균일도 향상에 관한 연구link

Kim, Jin-Hyuck; 김진혁; et al, 한국과학기술원, 2000

15
ALD-TiN을 이용한 MOCVD Al박막의 표면 거칠기 개선에 관한 연구 = A study on the surface morphology improvement of MOCVD Al film using ALD-TiNlink

이현배; Lee, Hyun-Bae; et al, 한국과학기술원, 1999

16
Characterization of $TiO_2$ thin films formed by plasma enhanced atomic layer deposition = PEALD법을 이용한 $TiO_2$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Park, Pan-Kwi; 박판귀; et al, 한국과학기술원, 2002

17
CMP의 기계적 공정 변수가 반도체 표면 평탄화의 균일도에 미치는 영향 = A effect of the mechanical factors on the uniformity in the chemical-mechanical polishing(CMP) of $SiO_2$ thin filmlink

김우찬; Kim, Woo-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996

18
Cycle-CVD법을 이용한 tantalum oxide 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 = A study on atomic layer deposition and film characteristics of tantalum oxide using cycle-CVDlink

송현정; Song, Hyun-Jung; et al, 한국과학기술원, 1998

19
Cyclic CVD 법으로 증착된 TiN 박막의 증착 기구와 특성에 관한 연구 = A study on deposition mechanism and characteristics of TiN thin films deposited by Cyclic CVDlink

손영웅; Sohn, Young-Woong; et al, 한국과학기술원, 1997

20
(The) effect of $H_2$ plasma treatment on the film growth rate in catalytic-enhanced Cu CVD = 촉매를 이용한 Cu CVD의 증착속도에 대한 수소 플라즈마의 효과 연구link

Kwon, Oh-Kyum; 권오겸; et al, 한국과학기술원, 2001

21
급속열산화법을 이용한 게이트용 산화막 성장기구에 관한 연구 = Kinetics of rapid thermal oxidation of siliconlink

심규찬; Shim, Kew-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996

22
왕겨로 부터 Si3N4형성에 관한 속도론적 연구 = The kinetics of silicon nitride formation from korean rice hullslink

강상원; Kang, Sang-Won; et al, 한국과학기술원, 1978

23
원자층 단위 증착법으로 증착된 TiN 증착기구에 대한 모델 연구 = A study of the deposition model about ALD (atomic layer deposition) TiN methodlink

박진성; Park, Jin-Seong; et al, 한국과학기술원, 1999

24
테스트 패턴을 이용한 다결정 실리콘 박막의 열팽창 계수 측정에 관한 연구 = Measurement of thermal expansion coefficient of polycrystalline silicon thin film by micro test patternslink

채정헌; Chae, Jung-Hun; et al, 한국과학기술원, 1997

25
화학적 기계적 연마의 광학적 End-point detection 알고리즘에 관한 연구 = A study on the algorithm of optical end-point dectection for chemical mechanical polishinglink

노용주; Roh, Yong-Ju; et al, 한국과학기술원, 1998

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