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19201
화학 증착법에 의한 $TiO_2$ 박막 제조시 기상에서의 반응이 증착 특성에 미치는 영향 = Effects of gas phase reaction on deposition characteristics during $TiO_2$ Thin film preparation by CVDlink

조정호; Cho, Jeong-Ho; et al, 한국과학기술원, 1992

19202
화학 증착법으로 만든 탄소/탄소 복합재료의 미세 구조 및 기계적 성질에 관한 연구 = A study on the microstructures and mechanical properties of the chemically vapor-deposited carbon/carbon compositeslink

송근용; Sohn, Keun-Yong; et al, 한국과학기술원, 1987

19203
화학 증착법으로 제조한 SiC 가 함유된 탄소/탄소 복합재료의 산화거동에 관한 연구 = A study on the oxidation behavior of carbon/carbon composites co-deposited with SiClink

김윤기; Kim, Yoon-Kee; et al, 한국과학기술원, 1992

19204
화학기상증착법에의한코발트다이실리사이드콘택형성방법

안병태; 이화성

19205
화학기상증착법에의한코발트실리사이드콘택형성방법

안병태; 이화성

19206
화학기상증착법으로 제조된 다결정 다이아몬드 박막의 전기적 특성 = Electrical properties of chemical vapor deposited polycrystalline diamond thin filmslink

이범주; Lee, Bum-Joo; et al, 한국과학기술원, 1999

19207
화학기상증착을 통한 이차원 유무기 할로겐화 페로브스카이트 성장 전략 = Strategies for chemical vapor deposition of two-dimensional organic-inorganic halide perovskiteslink

함아영; 강기범; et al, 한국과학기술원, 2022

19208
화학적 기계적 연마의 광학적 End-point detection 알고리즘에 관한 연구 = A study on the algorithm of optical end-point dectection for chemical mechanical polishinglink

노용주; Roh, Yong-Ju; et al, 한국과학기술원, 1998

19209
화학적 방법에 의한 단분산 구형의 세라믹스 분말 합성

최재영; 김도경; 김종희; Jin Ming Ji, 요업기술, v.12, no.6, pp.444 - 457, 1997-12

19210
화학적 산화막 중간층을 이용한 비정질 Si 박막의 기상유도결정화 연구 = Vapor induced crystallization of amorphous Si flims using chemical oxide interlayerlink

안경민; Ahn, Kyung-Min; et al, 한국과학기술원, 2006

19211
화학적 수소화물의 수소발생을 위한 인이 함유된 천이금속촉매 및 이의 제조방법

권혁상; 조근우; 엄광섭; 이재영, 2008-02-20

19212
화학적인 표면 패턴을 이용한 라멜라 블록공중합체의 일차원적인 나노구조 제어 = One-Dimensional assembly of lamellar block copolymers upon chemically patterned surfaceslink

신동옥; 김상욱; et al, 한국과학기술원, 2008

19213
화학조성에 의한 $SrTioO_3$의 미세구조 조절과 유전 특성 = Chemical control of the microstructure of $SrTiO_3$ and its effect on dielectric propertieslink

김주선; Kim, Joo-Seon; et al, 한국과학기술원, 1992

19214
화학증착법에 의하여 제조된 탄화규소 코팅층의 기계적 특성

이현근; 김종호; 김도경, 한국세라믹학회지, v.43, no.8, pp.492 - 497, 2006-08

19215
화학증착법에 의한 $Pb(Zr_x, Ti_{1-x})O_3$ 박막의 증착 거동 및 박막의 특성평가에 관한 연구 = A study on the deposition behavior and characterization of PZT thin film by MOCVDlink

최준후; Choi, Joon-Hoo; et al, 한국과학기술원, 1994

19216
화학증착법에 의한 $PbTiO_3$ 박막의 제조 = Fabrication of $PbTiO_3$ thin films by chemical vapor depositionlink

이혜용; Lee, Hae-Yong; et al, 한국과학기술원, 1993

19217
화학증착법에 의한 $PbTiO_3$박막의 제조와 반응변수들이 증착층의 특성과 전기 및 광학적 성질에 미치는 영향 = The fabrication of the $PbTiO_3$thin films by chemical vapour deposition and the effect of the deposition parameters on the physical, electical, and optical properties of deposited filmslink

윤순길; Yoon, Soon-Gil; et al, 한국과학기술원, 1988

19218
화학증착법에 의한 $SnO_2$의 증착기구 및 전기적성질에 관한 연구 = The deposition mechanism and electrical properties of $SnO_2$ by chemical vapor depositionlink

김광호; Kim, Kwang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1986

19219
화학증착법에 의한 $ZrO_2$ 박막의 제조 및 반응변수에 따른 증착특성 = The fabrication of the $ZrO_2$ thin film by chemical vapor deposition and the effect of the reaction parameters on the deposition characteristicslink

최준후; Choi, Joon-Hoo; et al, 한국과학기술원, 1990

19220
화학증착법에 의한 Silicon carbide 내산화 코팅에 관한 연구 = A study on the silicon carbide anti-oxidation coatings by chemcial vapor depositionlink

이원준; Lee, Won-Jun; 이원종; 박종욱; et al, 한국과학기술원, 1993

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