1 | 10-Camphorsulfonyloxymaleimide와3-(t-Butoxycarbonyl)-N-vinylpyrrolidone, 3-(t-Butoxycarbonyl)-N-vinylcaprolactam의 공중합체 특성과 레지스트 응용 김상태; 정민호; 김진백; 정찬문; 안광덕, 한국고분자학회 1996년도 추계 학술대회 , pp.306 - 307, 한국고분자학회, 1996-10-12 |
2 | 193-nm photoresists based on acid-catalyzed main chain scission = 주쇄 절단형 193-nm 포토레지스트에 관한 연구link Kim, Yu-Na; 김유나; et al, 한국과학기술원, 2005 |
3 | ((1S)-(+)-10-Camphosulfonyloxymaleimide [(+)CmpSOMI] 공중합체의 산발생 특성과 레지스트 응용 정찬문; 김상태; 김진백; 안광덕, 한국고분자학회 1996년도 춘계 학술대회 , pp.316 - 317, 한국고분자학회, 1996-04-20 |
4 | A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography 정선화; 조경천; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
5 | A new approach in top surface imaging through the selective adsorption of poly(dimethylsiloxane) derivatives = 폴리디메틸실록산 유도체의 선택적 흡착을 이용한 새로운 표면 이미징에 관한 연구link Youn, Seul-Ki; 윤슬기; et al, 한국과학기술원, 2007 |
6 | A novel molecular resist for EUV lithography = 극 자외선 리소그래피용 분자 레지스트에 관한 연구link Jeong, Sun-Hwa; 정선화; et al, 한국과학기술원, 2013 |
7 | A novel top surface imaging approach utilizing selective chemisorption of diphenyl siloxane derivatives 김현희; 우승아; 김진백, 2012 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-04-12 |
8 | A novel top surface imaging using photoinduced interfacial reaction of diphenyl siloxane derivatives = 디페닐실록산 유도체의 광유도 계면반응을 이용한 새로운 표면 이미징에 관한 연구link Kim, Hyun-Hee; 김현희; et al, 한국과학기술원, 2012 |
9 | (A) study on novel top surface imaging by selective adsortion of silicon surfactants = 실리콘 양이온 계면활성제의 선택적 흡착에 의한 새로운 표면 이미징에 관한 연구link Seo, Ji-Soo; 서지수; et al, 한국과학기술원, 2004 |
10 | (A) study on polyimide-polysilsesquioxane hybrid nanocomposite for interlayer dielectric = 층간 절연체를 위한 폴리이미드-폴리실세스퀴옥산 하이브리드 나노복합물에 관한 연구link Yoon, Kyung-Hwan; 윤경환; et al, 한국과학기술원, 1999 |
11 | (A) study on the ionic conductivity effect of polymer matrix on the electro-optic properties of PDLC = 고분자 기재의 이온전도도가 고분자분산액정의 전기광학특성들에 미치는 효과에 관한 연구link Lee, Myong-Goo; 이명구; et al, 한국과학기술원, 1998 |
12 | (A) study on the silicone abrasion resistant coatings for polycarbonate glazing = 폴리카보네이트 글레이징용 실리콘계 내마모성 코팅제에 관한 연구link Lee, Jae-Jun; 이재준; et al, 한국과학기술원, 1998 |
13 | An electrical generator using nature-leaf surface 하재욱; 김성민; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-10 |
14 | An organic–inorganic hybrid material containing polyhedral oligomeric silsesquioxane based on a non-chemically amplified resist system 우승아; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
15 | beta-keto acid를 포함한 포토레지스트의 합성과 리소그라피 평가 김진백; 김경선, 한국고분자학회 2000년도 추계학술대회, pp.286 - 286, 한국고분자학회, 2000-10 |
16 | Biocompatible photoresists as nonchemically amplified resist systems and their biomolecular patterning applications = 비화학증폭형 레지스트계열로서 바이오적합성 포토레지스트 연구 및 바이오분자 패턴에의 응용link Yun, Je-Moon; 윤제문; et al, 한국과학기술원, 2010 |
17 | Copolymers containing N-vinyllactam derivatives, preparation methods thereof and photoresists therefrom 김진백, 2000-04-18 |
18 | Development of an eco-friendly stripper containing organic ammonium hydroxide = 유기 암모늄 수산화물을 포함하는 친환경 박리액 개발에 관한 연구link Kim, Su Ji; Kim, Jin Baek; et al, 한국과학기술원, 2016 |
19 | Development of eco-friendly stripper for dry film resist 김수지; 정경옥; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-09 |
20 | Dual patterned self-assembled monolayer via si-containing block copolymer lithography on gold substrate and their applications 우승아; 최수영; 구세진; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
21 | Dual patterning process by the combination of photolithography and self-assembly of block copolymer = 포토리소그라피와 블록공중합체의 자기조립현상을 조합한 이중 패터닝 공정에 관한 연구link Ku, Se-Jin; 구세진; et al, 한국과학기술원, 2007 |
22 | Dual responsive materials for sequential patterning by thermal imprint and photolithography = 열 임프린트와 포토리소그래피로 순차적인 패터닝이 가능한 이중반응성 물질에 관한 연구link Min, Chang-Su; 민창수; et al, 한국과학기술원, 2009 |
23 | Dually patterned self-assembled monolayer via silicon-containing block copolymer lithography on gold substrate and their applications 우승아; 최수영; 구세진; 김진백, 2012 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-04-13 |
24 | Dually patterned self-assembled monolayer via silicon-containing photoresist lithography on gold substrate and their biomolecular patterning applications = 실리콘을 함유한 포토레지스트 리소그래피를 이용한 서로 다른 작용기를 갖는 자기조립 단분자막의 형성과 바이오 분자 패턴에의 응용link Choi, Soo-Young; 최수영; et al, 한국과학기술원, 2012 |
25 | Eco-friendly photoresists for thin film transistors and color filter Ha, Jaewook; 우승아; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
26 | Effect of functional organic additives on the resist stripper = 기능성 유기첨가제가 레지스트 박리액에 미치는 영향에 관한 연구link Cheon, Jihun; Kim, Jin-Baek; et al, 한국과학기술원, 2017 |
27 | Effects of fluorine for photoresist properties = 불소를 포함하는 포토레지스트의 합성과 그 성질 변화에 관한 연구link Kim, Young-Woo; 김영우; et al, 한국과학기술원, 2003 |
28 | Electrostatic charging of fluoropolymer and its application for triboelectric energy harvesting = 불소고분자의 정전하 충전과 그의 마찰전기 에너지 수확을 위한 응용에 관한 연구link Ha, Jaewook; 하재욱; et al, 한국과학기술원, 2017 |
29 | Fabrication of chemical and topographic nanopatterns using functionalized block copolymer thin films = 기능성 블록공중합체 박막을 이용한 화학적 나노 패턴과 지형적 나노 패턴 제조 공정에 관한 연구link Ku, Se-Jin; 구세진; et al, 한국과학기술원, 2011 |
30 | Fabrication of dual functionalized surfaces on a patterned SiO2/Au template via si-containing block copolymer 최수영; 우승아; 구세진; 김진백, 2013 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2013-04-12 |
31 | Fabrication of Dually Functionailized Surfaces on Au Substrates Using Si-Containing Photoresists 최수영; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-10 |
32 | Fabrication of dually functionalized patterns on a gold suface via inkless micro-contact printing 신승민; 최수영; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-10 |
33 | Fabrication of Dually Functionalized Surfaces on an Au Substrate Using a Si-Containing Block Copolymer and Their Applications 최수영; 우승아; 정경옥; 김진백, 2014 춘계대한화학회 , 대한화학회, 2014-04-16 |
34 | Fabrication of Hematite Nanowire Arrays via Top-down Process 신승민; 김진백, 2015 추계 고분자 학회, 한국고분자학회, 2015-10-08 |
35 | Fabrication of high aspect ratio nanoporous templatesUsing silicon-containing block copolymers and one-dimensional(1D) nanostructure 조경천; 박창홍; 김진백, 2011 춘계 대한화학회, 대한 화학회, 2011-04-28 |
36 | Fabrication of highly ordered freestanding titanium oxide nanotube arrays using Si-containing block copolymer and atomic layer deposition 조경천; 구세진; 박창홍; 김수민; 신유리; 김광호; 권세훈; et al, 차세대 리소그래피학술대회, 한국광학회, 2014-04-10 |
37 | Fabrication of inverse opal polypyrrole prepaerd by vapor-phase polymerization using colloidal templating 하명진; 신승민; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-10 |
38 | Fabrication of nano-line patterns via directed self-assembly of silicon-containing block copolymers = 실리콘을 포함한 블록 공중합체의 유도된 자기 조립을 이용한 나노 라인 패턴의 제작link Kang, Eun-Hee; 강은희; et al, 한국과학기술원, 2013 |
39 | Fabrication of nanoporous templates with high aspect ratio using silicon-containing block copolymers and dual responsive bilayer systems 박창홍; 조경천; 김진백, 2011 춘계 대한화학회, 대한 화학회, 2011-04-28 |
40 | Fabrication of nanostructured metal oxides using self-organization and their applications to photoelectrochemical water splitting = 자기조립을 이용한 나노구조체 금속 산화물의 제작과 이의 광전기화학 물분해 응용에 관한 연구 Bak, Chang hong; 박창홍; et al, 한국과학기술원, 2015 |
41 | Fabrication of SiO2 nanopatterns based on Si-containing block copolymer self-assembly 박창홍; 강은희; 김진백, 2013 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2013-10-11 |
42 | Fabrication of SiO2 nanopatterns by directed self-assembly of Si-containing block copolymers 박창홍; 강은희; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
43 | Fabrication of TiO2 nanotube arrays using Si-containing block copolymer lithography and atomic layer deposition: properties and potential in photovoltaic devices 조경천; 정경옥; 박창홍; 권세훈; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
44 | Fabrication of versatile metal oxide nanostructures using hybrid organic-inorganic materials and their applications = 유무기 하이브리드 물질을 이용한 다양한 메탈 옥사이드 나노구조체 제작과 그 응용link Shin, Seungmin; 신승민; et al, 한국과학기술원, 2017 |
45 | Formation of diazoketo-functionalized self-assembled monolayer and it's applications for biomolecular patterning = 다이아조케토기를 포함한 자기조립 모노머의 형성과 바이오물질 패터닝에의 응용link Lee, Hyun-Jung; 이현정; et al, 한국과학기술원, 2008 |
46 | Freestanding 1D nanostructure arrays of a variety of functional materials using a photo-cleavable cross-linked nanoporous template 정경옥; 박창홍; 조경천; 김진백, 2012 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2012-10-12 |
47 | Freestanding 1D Nanostructure Arrays of a Variety of Functional Materials Using a Photo-Cleavable Cross-Linked Nanoporous Template 정경옥; 박창홍; 조경천; 김진백, 2012 추계 한국 고분자 학회, 한국고분자학회, 2012-10-12 |
48 | High aspect ratio nanoporous templates using silicon-containing block copolymers 조경천; 김진백; 구세진; 권세훈; 박창홍; 최지환, 2011 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2011-04-08 |
49 | Highly active cone-shaped nanoporous gold SERS substrates using nanosphere lithography 조경천; 김진백, 2015 춘계 한국 고분자 학회, 대한 고분자 학회, 2015-04-10 |
50 | Highly ordered freestanding titanium oxide nanotube arrays using Si-containing block copolymer lithography and atomic layer deposition 조경천; 정경옥; 박창홍; 권세훈; 김진백, 2013 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2013-04-12 |
51 | Inkless Micro-Contact Printing on a Gold Surface for Fabrication of Dually Functionalized Patterns 신승민; 최수영; 김진백, 2014 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2014-10-08 |
52 | I비닐4-T-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐알코올-비닐아세테이트공중합체와비닐4-T-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐4-히드록시벤잘-비닐알코올-비닐아세테이트공중합체및그들의제조방법 김진백; 김현우 |
53 | Mobility of photogenerated acid in resists and molecular resists = 레지스트에서의 산의 거동 및 분자 레지스트에 관한 연구link Kwon, Young-Gil; 권영길; et al, 한국과학기술원, 2001 |
54 | Molecular and polymeric resists for deep UV lithography = Deep UV 리소그라피용 분자 및 고분자 레지스트에 관한 연구link Ganesan, Ramakrishnan; 가네산, 라마크리시난; et al, 한국과학기술원, 2006 |
55 | N-비닐락탐 유도체의 공중합체, 그의 제조방법 및 그를 이용한 포토레지스트 김진백; 정민호; 정종호 |
56 | Nano-patterning process of self-assembled monolayer via si-containing block copolymer lithography on gold substrate 우승아; 최수영; 구세진; 김진백, 2011 춘계 대한화학회, 대한 화학회, 2011-04-28 |
57 | Nanoporous templates for freestanding one-dimensional nanostructure arrays using silicon-containing block copolymers and dual responsive photoresists 박창홍; 구세진; 조경천; 정경옥; 김진백, 2011 추계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2011-10-07 |
58 | Nanoporous templates with high aspect ratio using silicon-containing block copolymers and dual responsive photoresists 박창홍; 구세진; 조경천; 김진백, 2011 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2011-04-07 |
59 | Near-UV Sensitive Photo-Patternable Adhesives 김일; 조영욱; 김진백; 백경욱, 2011 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2011-04-08 |
60 | New materials for organic light emitting diodes and new matrix system for next generation photoresist = 유기 전기 발광 재료 및 차세대 포토레지스트 재료에 관한 연구link Park, Ji-Young; 박지영; et al, 한국과학기술원, 2008 |