I비닐4-T-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐알코올-비닐아세테이트공중합체와비닐4-T-부톡시카르보닐옥시벤잘-비닐4-히드록시벤잘-비닐알코올-비닐아세테이트공중합체및그들의제조방법

Abstract

본 발명은 폴리(비닐 알코올)을 4-히드록시벤즈알데히드로 아세탈화시킨 비닐 4-히드록시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체, 전기 공중합체의 4-히드록시벤잘기의 전부 또는 일부를 t-부록시카르보닐기로 보호한 비닐 4-t-부록시카르보닐옥시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체(공중합체(II)) 또는 비닐 4-t-부톡시카드보닐옥시벤잘-비닐 4-히드록시벤잘-비닐 알코올-비닐 아세테이트 공중합체(공중합체(II)), 그들의 제조 방법 및 그들 중합체의 포토레지스트로서의 용도에 관한 것이다. 상기 공중합체(II) 및 (III)를 포토레지스트로서 미세가공기술에 이용하면, 투면성과 열적안정성, 기계적 강도, 실리콘 웨이퍼에 대한 접착성 및 노광과 열처리 시의 적은 무게 손실로 미세회로의 해상도를 향상시킬 수 있다.