1 | (A) study on performance and stability of polysilicon thin-film transistors using ECR plasma thermal oxide as gate insulator = ECR 플라즈마 열 산화막을 게이트 절연막으로 사용하는 다결정실리콘 박막 트랜지스터의 성능및 안정성에 관한 연구link Lee, Jung-Yeal; 이정렬; et al, 한국과학기술원, 1995 |
2 | (A) study on performance, short-channel effects, and stability of polycrystalline silicon thin-film transistors using ECR $N_2O$-plasma gate oxide = 얇은 ECR $N_2O$-플라즈마 게이트 산화막을 사용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 성능, 단채널 효과 및 안정성에 관한 연구link Lee, Jin-Woo; 이진우; et al, 한국과학기술원, 1999 |
3 | Characteristics of tunneling nitride grown by electron cyclotron resonance nitrogen-plasma nitridation and its application to low-voltage electrical erasable-programmable read-only memory Min, KS; Chung, JY; Lee, Kwyro, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.40, no.4B, pp.2963 - 2968, 2001-04 |
4 | Composition control of lead zirconate titanate thin films in electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition system Kim, JW; Shin, JS; Wee, Dang-Moon; No, Kwangsoo; Lee, Won-Jong, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.35, no.5A, pp.2726 - 2730, 1996-05 |
5 | ECR PE-MOCVD법에 의해 증착된 $PbTiO_3$, PLT 박막의 특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of $PbTiO_3$, PLT thin films deposited by ECR PE-MOCVDlink 정성웅; Chung, Sung-Woong; et al, 한국과학기술원, 1996 |
6 | ECR PECVD법을 이용한 SiOF 박막의 증착 특성 및 유전율 안정화에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics and the dielectric stability of the SiOF films deposited by ECR PECVDlink 변경문; Byun, Kyung-Mun; et al, 한국과학기술원, 1999 |
7 | ECR PECVD에 의한 다이아몬드 막의 식각특성에 관한 연구 = A study on the etching characteristics of diamond film by ECR PECVDlink 조두현; Cho, Du-Hyun; et al, 한국과학기술원, 1999 |
8 | ECR 플라즈마 기상화학증착법으로 제조한 초고집적회로 금속화공정의 확산방지용 TiN 박막의 특성 = The characteristics of TiN thin films prepared by ECR-PECVD as a diffusion barrier layer in ULSI metallization processlink 김종석; Kim, Jong-Seok; et al, 한국과학기술원, 1997 |
9 | ECR 플라즈마를 이용한 $RuO_2$ 박막의 건식 식각특성에 관한 연구 = A study on the dry etching characteristics of $RuO_2$ thin film in electron cyclotron resonance plasmalink 이응직; Lee, Eung-Jik; et al, 한국과학기술원, 1998 |
10 | ECR-PECVD 법으로 제조한 PZT 박막의 물성 연구 = Characteriszation of PZT thin films prepared by ECR-PECVDlink 김재환; Kim, Jae-Whan; 위당문; 이원종; et al, 한국과학기술원, 1996 |
11 | Fabrication of perovskite (Pb,La)(Zr,Ti)O-3 thin films by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition Shin, JS; No, Kwangsoo; Lee, Won-Jong, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, v.36, no.2B, pp.223 - 226, 1997-02 |
12 | MICROSTRUCTURE AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF TANTALUM OXIDE THIN-FILM PREPARED BY ELECTRON-CYCLOTRON-RESONANCE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION KIM, I; AHN, SD; CHO, BW; Ahn, SungTae; Lee, JeongYong; CHUN, JS; Lee, Won-Jong, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.33, no.12A, pp.6691 - 6698, 1994-12 |
13 | $O_2/Cl_2$ ECR 플라즈마를 이용한 $RuO_2$ 박막의 건식 식각특성에 관한 연구 = Dry etching chacrateristics of $RuO_2$ thin film in $O_2/Cl_2$ electron cycl0tron resonance plasmalink 김종삼; Kim, Jong-Sam; et al, 한국과학기술원, 1997 |
14 | Optical properties of Er-doped silicon rich silicon oxide(SRSO) films deposited by electron cyclotron resonance-plasma enhanced chemical vapor deposition(ECR-PECVD) = ECR PECVD 방법으로 증착한 Er 이 도핑된 SRSO 박막에서의 광학적 특성연구link Seo, Se-Young; 서세영; et al, 한국과학기술원, 1998 |
15 | (Pb,La)(Zr,Ti)O-3 thin films prepared by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition for the charge storage capacitor of a gigabit-scale dynamic random access memory Shin, JS; Lee, Won-Jong, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.37, no.1, pp.198 - 203, 1998-01 |
16 | Polysilicon thin film transistor EEPROMs using ECR $N_2O$-plasma thin oxide as tunnel oxide and interpoly dielectric = 얇은 ECR $N_2O$-플라즈마 산화막을 tunnel oxide 및 interpoly dielectric으로 사용한 다결정 실리콘 박막 트랜지스터 EEPROMs에 대한 연구link Lee, Nae-In; 이내인; et al, 한국과학기술원, 1999 |
17 | Study on liquid crystal alignment by polymer alloy film of polyimide and photo-reactive polymer = 폴리이미드와 광반응성 고분자를 이용한 고분자 얼로이 필름의 액정배향에 관한 연구link Kim, Hee-Tak; 김희탁; et al, 한국과학기술원, 1999 |
18 | Temperature dependent universal mobility modeling and ECR plasma nitridation of Si for fast EEPROM = 온도 의존성을 갖는 전자 및 정공의 이동도 모델과 고속 EEPROM을 위한 ECR 플라즈마 질화 절연막에 대한 연구link Min, Kyeong-Sik; 민경식; et al, 한국과학기술원, 1997 |
19 | The effects of substrate temperature and lead precursor flow rate on the fabrication of (Pb,La)(Zr,Ti)O-3 thin films by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition Shin, JS; Chun , Soung Soon; Lee, Won-Jong, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES REVIEW PAPERS, v.36, no.4A, pp.2200 - 2206, 1997-04 |
20 | Theoretical investigations for electron heating and plasma transport phenomena in ECR- and TCP- discharge = ECR 및 TCP 방전에서의 전자가열과 플라즈마 수송현상에 대한 이론적인 연구link Yoon, Nam-Sik; 윤남식; et al, 한국과학기술원, 1996 |
21 | 염소계 플라즈마를 이용한 구리박막의 건식 식각기구에 관한 연구 = A study on the dry etching mechanism of copper film in chlorine-based plasmalink 이성권; Lee, Sung-Kwon; et al, 한국과학기술원, 1997 |
22 | 전자 싸이클로트론 공명 플라즈마 식각장치내에서 $SF_6$ 방전시 생성된 F 활성원자의 분포특성 연구 = Study on the characteristics of F radical atoms created from the $SF_6$ discharge in ECR plasma etcherlink 김용진; Kim, Yong-Jin; et al, 한국과학기술원, 1995 |