Showing results 1 to 3 of 3
Temperature control for the gate workfunction engineering of TiC film by atomic layer deposition Kim, Choong-Ki; Ahn, Hyun Jun; Moon, Jung Min; Lee, Sukwon; Moon, Dong-Ii; Park, Jeong Soo; Cho, Byung-Jin; et al, SOLID-STATE ELECTRONICS, v.114, pp.90 - 93, 2015-12 |
원자층 증착 방법을 이용한 낮은 일함수를 갖는 탄화에르븀 박막 증착 및 에르븀저마나이드 형성에 대한 연구 = Atomic layer deposition of erbium carbide film for n-type workfunction metal and erbium germanide 안현준; Ahn, Hyunjun; et al, 한국과학기술원, 2015 |
원자층 증착 방법을 이용한 일함수 조절 가능한 탄화티탄 박막 및 니켈 증착에 대한 연구 = Atomic layer deposition of workfunction-tunable Tic and nickel filmslink 김충기; Kim, Choong-Ki; et al, 한국과학기술원, 2014 |
Discover