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(A) study on uniformity of polishing rate in the chemical-mechanical polishing(CMP) of SiO2 thin film = 실리콘 산화막 CMP에서 연마속도 균일도 향상에 관한 연구link Kim, Jin-Hyuck; 김진혁; et al, 한국과학기술원, 2000 |
CMP의 기계적 공정 변수가 반도체 표면 평탄화의 균일도에 미치는 영향 = A effect of the mechanical factors on the uniformity in the chemical-mechanical polishing(CMP) of $SiO_2$ thin filmlink 김우찬; Kim, Woo-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996 |
Cr, Mo가 코팅된 실리콘 팁과 열처리에 따른 전계방출 특성에 대한 연구 = Investigation of field emission properties of Cr, Mo coated silicon tip and their change upon annealinglink 맹인영; Maeng, In-Young; et al, 한국과학기술원, 1997 |
DC magnetron sputtering으로 증착한 Cr 산화물 박막의 두께 균일도 및 광학적인 특성 분석 = Analysis on thickness uniformity and optical properties of chromium oxide thin films deposited by DC magnetron sputteringlink 홍승범; Hong, Seung-Bum; et al, 한국과학기술원, 1996 |
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