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Browse "MS-Theses_Master(석사논문)" by Author 강상원

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Showing results 16 to 25 of 25

16
Characterization of $TiO_2$ thin films formed by plasma enhanced atomic layer deposition = PEALD법을 이용한 $TiO_2$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Park, Pan-Kwi; 박판귀; et al, 한국과학기술원, 2002

17
CMP의 기계적 공정 변수가 반도체 표면 평탄화의 균일도에 미치는 영향 = A effect of the mechanical factors on the uniformity in the chemical-mechanical polishing(CMP) of $SiO_2$ thin filmlink

김우찬; Kim, Woo-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996

18
Cycle-CVD법을 이용한 tantalum oxide 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 = A study on atomic layer deposition and film characteristics of tantalum oxide using cycle-CVDlink

송현정; Song, Hyun-Jung; et al, 한국과학기술원, 1998

19
Cyclic CVD 법으로 증착된 TiN 박막의 증착 기구와 특성에 관한 연구 = A study on deposition mechanism and characteristics of TiN thin films deposited by Cyclic CVDlink

손영웅; Sohn, Young-Woong; et al, 한국과학기술원, 1997

20
(The) effect of $H_2$ plasma treatment on the film growth rate in catalytic-enhanced Cu CVD = 촉매를 이용한 Cu CVD의 증착속도에 대한 수소 플라즈마의 효과 연구link

Kwon, Oh-Kyum; 권오겸; et al, 한국과학기술원, 2001

21
급속열산화법을 이용한 게이트용 산화막 성장기구에 관한 연구 = Kinetics of rapid thermal oxidation of siliconlink

심규찬; Shim, Kew-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996

22
왕겨로 부터 Si3N4형성에 관한 속도론적 연구 = The kinetics of silicon nitride formation from korean rice hullslink

강상원; Kang, Sang-Won; et al, 한국과학기술원, 1978

23
원자층 단위 증착법으로 증착된 TiN 증착기구에 대한 모델 연구 = A study of the deposition model about ALD (atomic layer deposition) TiN methodlink

박진성; Park, Jin-Seong; et al, 한국과학기술원, 1999

24
테스트 패턴을 이용한 다결정 실리콘 박막의 열팽창 계수 측정에 관한 연구 = Measurement of thermal expansion coefficient of polycrystalline silicon thin film by micro test patternslink

채정헌; Chae, Jung-Hun; et al, 한국과학기술원, 1997

25
화학적 기계적 연마의 광학적 End-point detection 알고리즘에 관한 연구 = A study on the algorithm of optical end-point dectection for chemical mechanical polishinglink

노용주; Roh, Yong-Ju; et al, 한국과학기술원, 1998

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