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고집적 FRAM용 LSCO/Ir/TaSiN 하부전극의 안정성에 관한 연구 = Stability of TaSiN diffusion barrier with LSCO/Ir hybrid bottom electrode for FRAM applicationlink 김명선; Kim, Myung-Sun; et al, 한국과학기술원, 2001 |
구리확산방지막용 질화텅스텐 박막의 열적 안정성과 미세구조 = Thermal stabilities and microstructures of $WN_x$ films as a Cu diffusion barrierlink 서봉석; Suh, Bong-Seok; et al, 한국과학기술원, 2000 |
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