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(A) study on the $TiO_2/Al_2O_3$ thin film for DRAM capacitor dielectric by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법을 이용한 $TiO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 DRAM capacitor 절연체 특성에 관한 연구link Jeon, Woo-Jin; 전우진; et al, 한국과학기술원, 2007 |
(A) study on the atomic layer deposition of Ti-Al-N thin films using plasmas = 플라즈마를 이용한 Ti-Al-N 박막의 원자층 증착법에 관한 연구link Lee, Yong-Ju; 이용주; et al, 한국과학기술원, 2003 |
(A) study on the kinetic model the thin film growth in ALD = ALD 박막 성장에 관한 동역학적 model 연구link Lim, Jung-Wook; 임정욱; et al, 한국과학기술원, 2001 |
산화-환원 ALD 증착법에 의해 형성된 Nickel 박막의 특성에 관한 연구 = A study on the nickel thin films formed by oxidation-reduction ALDlink 채정헌; Chae, Jung-Hun; et al, 한국과학기술원, 2002 |
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