D.C. Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 PbTiO3 박막의 열처리에 다른 c-축 배향성의 변화 Effect of Annealing on c-axis Orientation of PbTiO3 Thin Films by D.C. Magnetron Reactive Sputtering

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dc.contributor.author이승현ko
dc.contributor.author권순용ko
dc.contributor.author최한메ko
dc.contributor.author최시경ko
dc.date.accessioned2013-03-03T08:17:50Z-
dc.date.available2013-03-03T08:17:50Z-
dc.date.created2012-02-06-
dc.date.created2012-02-06-
dc.date.issued1996-07-
dc.identifier.citation한국세라믹학회지, v.33, no.7, pp.802 - 808-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/77928-
dc.description.abstractD.C. magnetron reactive sputtering법을 이용하여 MgO(100) 단결정 기판에 c-축으로 배향된 PbTiO₃ 박막을 제조하였다. 이들 박막을 열처리 온도와 시간을 변화시켜 열처리한 결과, c-축 배향도 및 격자상수의 감소를 관찰하였다. C-축 격자상수의 변화는 막중의 Pb/(Pb+Ti)비 및 잔류응력의 변화에 기인하여 일어날 수가 있다. Pb/(Pb+Ti)비를 0.45에서 0.57까지 변화시킨 PbTiO₃ 박막을 제조하여 열처리한 결과, 열처리 전후에 Pb 함량에 따른 박막의 구조 변화, c-축 배향도 및 격자상수의 변화는 관찰할 수 없었다. 그러므로, 열처리에 따른 c-축 격자상수의 변화는 박막 중의 고유응력의 변화에 기인된 것이 확인되었다. 이 고유능력의 완화에 의해서 c-축 배향도가 감소되는 것을 c-축 성장 격자 모델을 이용하여 설명할 수가 있었다.-
dc.languageKorean-
dc.publisher한국세라믹학회-
dc.titleD.C. Magnetron Reactive Sputtering법으로 증착한 PbTiO3 박막의 열처리에 다른 c-축 배향성의 변화-
dc.title.alternativeEffect of Annealing on c-axis Orientation of PbTiO3 Thin Films by D.C. Magnetron Reactive Sputtering-
dc.typeArticle-
dc.type.rimsART-
dc.citation.volume33-
dc.citation.issue7-
dc.citation.beginningpage802-
dc.citation.endingpage808-
dc.citation.publicationname한국세라믹학회지-
dc.contributor.localauthor최시경-
dc.contributor.nonIdAuthor이승현-
dc.contributor.nonIdAuthor권순용-
dc.contributor.nonIdAuthor최한메-
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MS-Journal Papers(저널논문)
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