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Highly selective SiO2 etching in low-electron-temperature inductively coupled plasma Bai, KH; Chang, Hong-Young; Kwon, GC; Kim, HS; Kim, JS, JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, v.46, pp.3602 - 3604, 2007-06 |
On inductively coupled plasmas for next-generation processing Lee, YK; Lee, DS; Bai, KH; Chung, CW; Chang, Hong-Young, SURFACE COATINGS TECHNOLOGY, v.169, pp.20 - 23, 2003-06 |
Parallelizability of helicon and inductively coupled plasma sources for large-area processing = 대면적 공정을 위한 헬리콘과 유도결합 플라즈마 소스의 평행화 연구link An, Sang-Hyuk; 안상혁; et al, 한국과학기술원, 2011 |
병렬 공명 안테나를 이용한 유도 결합 플라즈마 원 개발 및 플라즈마 변수 제어에 관한 연구 = Development of an inductively coupled plasma source using a parallel resonance antenna and study on the plasma parameter controllink 이동석; Lee, Dong-Seok; et al, 한국과학기술원, 2005 |
펄스 유도결합플라즈마에서 전하입자의 거동에 관한 연구 = Study on the behavior of charged particles in a pulsed inductively coupled plasmalink 이정범; Lee, Jeong-Beom; et al, 한국과학기술원, 2010 |
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