요동자석 스퍼터링 시스템에서의 타겟식각에 관한 연구 = Study on target erosion in rocking magnet sputtering system

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dc.contributor.advisor이원종-
dc.contributor.advisorLee, Won-Jong-
dc.contributor.author이도선-
dc.contributor.authorLee, Do-Sun-
dc.date.accessioned2011-12-15T01:46:49Z-
dc.date.available2011-12-15T01:46:49Z-
dc.date.issued2004-
dc.identifier.urihttp://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=240397&flag=dissertation-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/51632-
dc.description학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 신소재공학과, 2004.8, [ ii, 58 p. ]-
dc.description.abstract오늘날 반도체, LCD 공정에 관련되어 가장 보편적인 박막증착장비 중 하나가 마그네트론 스퍼터링 장비이다. 하지만 마그네트론 스퍼터링은 박막공정에서 널리 쓰이는 방법으로 박막증착속도가 빠르다는 장점이 있으나 자기장에 의해서 전자가 타겟 표면에 국부적으로 집중되어 타겟의 식각이 균일하지 못하여 타겟수명(target life-time)이 감소하고 식각형상이 고르지 못함에 따라 박막의 증착균일성(deposition uniformity) 역시 나빠지게 되는 단점이 있다. 본 연구에서는 단일/이중 요동자석 스퍼터링 건을 이용하여 타겟표면의 자기장을 대칭적, 주기적으로 변화시켜 가며 타겟효율, 타겟수명과 같은 주요 성능지표들에 대하여 최적화 연구를 수행하였다. 동시에 PIC(particle-in-cell)-MCC(Monte Carlo collision)방식의 타겟 스퍼터링 식각전산모사를 수행하여 실험결과와 전산모사 결과를 비교, 분석하여 전산모사만으로 식각형상을 예측하는 것을 목표로 둔다. 이를 위하여 단일/이중 요동자석건을 장착한 스퍼터링 장치를 이용하여 요동자석열의 자화각도차이에 따른 식각형상을 실험적으로 알아보고 전산모사된 식각형상과 비교, 분석하여 보았다.kor
dc.languagekor-
dc.publisher한국과학기술원-
dc.subject타겟수명 액상량-
dc.subject타겟효율-
dc.subject타겟식각-
dc.subject마그네트론 스퍼터링-
dc.subjectMAGNETRON SPUTTERING-
dc.subjectAND LIQUID VOLUME FRACTION-
dc.subjectTEMPERATURE-
dc.subjectPIC-MCC-
dc.subjectTARGET LIFE-TIME-
dc.subjectTARGET UTILIZATION-
dc.subjectEROSION-
dc.title요동자석 스퍼터링 시스템에서의 타겟식각에 관한 연구 = Study on target erosion in rocking magnet sputtering system-
dc.typeThesis(Master)-
dc.identifier.CNRN240397/325007 -
dc.description.department한국과학기술원 : 신소재공학과, -
dc.identifier.uid020023937-
dc.contributor.localauthor이도선-
dc.contributor.localauthorLee, Do-Sun-
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MS-Theses_Master(석사논문)
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