저유전율 박막 제조 공정을 위한 자외선 소스의 개발 = Development of UV source for low dielectric material processing

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저유전율 박막 제조를 위해서 2.45GHz 마이크로파를 이용한 황 방전을 일으켰다. 황방전은 수백토르의 아르곤 가스와 수밀리그램의 황가루를 넣고 밀봉한 수정구에서 이루어졌다. 스펙트럼 측정결과 대부분의 광방출이 자외선 영역에서 이루어짐을 발견했다. 이런한 결과들로부터 황방전의 특성에 대해 논의 한다.
Advisors
장홍영researcherChang, Hong-Youngresearcher
Description
한국과학기술원 : 물리학과,
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
2002
Identifier
173541/325007 / 020003506
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과, 2002.2, [ [iii], 35 p. ]

Keywords

sulfur discharge; microwave; low dielectric; 마이크로파; 황 방전; 저유전율; 자외선; uv

URI
http://hdl.handle.net/10203/48604
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=173541&flag=dissertation
Appears in Collection
PH-Theses_Master(석사논문)
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