나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치NANOTRANSFER PRINTING METHOD AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING SUBSTRATE, SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING VIAL AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING PATCH MANUFACTURED USING THE SAME
일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2015-09-14
- Application Number
- 10-2015-0129896
- Registration Date
- 2017-07-18
- Registration Number
- 10-1761010-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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