나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치NANOTRANSFER PRINTING METHOD AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING SUBSTRATE, SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING VIAL AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING PATCH MANUFACTURED USING THE SAME

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dc.contributor.author정연식ko
dc.contributor.author정재원ko
dc.contributor.author백광민ko
dc.contributor.author김종민ko
dc.contributor.author남태원ko
dc.date.accessioned2024-02-19T11:00:30Z-
dc.date.available2024-02-19T11:00:30Z-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/318132-
dc.description.abstract일실시예에 따른 나노전사 프린팅 방법은 표면 패턴이 형성된 템플릿 기판 상에 고분자 박막을 코팅하는 단계; 상기 고분자 박막 및 접착 필름을 이용하여 상기 고분자 박막을 복제 박막 몰드로 제작하는 단계; 상기 복제 박막 몰드 상에 나노구조체를 형성하는 단계; 상기 접착 필름과 상기 복제 박막 몰드간 접착력을 선택적으로 약화시키는 단계; 및 상기 나노구조체를 대상 물체에 전사하는 단계를 포함한다.-
dc.title나노전사 프린팅 방법 및 이를 이용하여 제작되는 SERS 기판, SERS 바이얼 및 SERS 패치-
dc.title.alternativeNANOTRANSFER PRINTING METHOD AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING SUBSTRATE, SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING VIAL AND SURFACE-ENHANCED RAMAN SCATTERING PATCH MANUFACTURED USING THE SAME-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor정연식-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2015-0129896-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1761010-0000-
dc.date.application2015-09-14-
dc.date.registration2017-07-18-
dc.publisher.countryKO-
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