불순물의실리콘으로의고속열확산방법및그고속열확산장치METHOD AND APPARATUS OF HIGH SPEED THERMAL DIFFUSION

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 47
  • Download : 0
가열용 실리콘 웨이퍼(21), 확산소오스(20), 석영스페이서(19) 및 불순물이 도핑될 웨이퍼(18)를 석영핀(15)의 개재하에 석영 트레이(14)에 샌드위치 구조로 재치시킨 후 분위기 가스 존재하에서 텅스텐-할로겐 램프(13)의 빛으로 가열시켜, 상기 확산소오스(20)로부터 상기 웨이퍼(18)의 표면으로 그래스를 천이시킴과 동시에 그 천이된 그래스로부터 상기 웨이퍼(18)의 내부로 불순물을 확산시킴을 특징으로 하는 불순물의 실리콘으로의 고속 열확산방법.
Assignee
한국과학기술연구원
Country
KO (South Korea)
Application Date
1989-06-13
Application Number
10-1989-0008147
Registration Date
1993-07-28
Registration Number
10-0063943-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/300012
Appears in Collection
RIMS Patents
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0