노광 각도가 조절된 근접장 패터닝을 이용한 나노구조의 조절 및 제작METHOD OF FABRICATION AND CONTROL OF NANOSTRUCTURE ARRAY BY ANGLE-RESOLVED EXPOSURE IN PROXIMITY-FIELD NANOPATTERNING
개시된 나노 구조의 제조 방법은, 요철 구조를 갖는 위상 마스크와 감광성 필름을 접촉시키는 단계; 상기 위상 마스크의 요철 구조를 통해 상기 감광성 필름을 노광하는 단계; 및 상기 감광성 필름을 현상하여 나노 구조를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 감광성 필름을 노광하는 단계에서, 광은 상기 감광성 필름의 노광면에 기울어진 방향으로 입사된다.