노광 각도가 조절된 근접장 패터닝을 이용한 나노구조의 조절 및 제작METHOD OF FABRICATION AND CONTROL OF NANOSTRUCTURE ARRAY BY ANGLE-RESOLVED EXPOSURE IN PROXIMITY-FIELD NANOPATTERNING
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 전석우 | ko |
| dc.contributor.author | 남상현 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-04-26T03:00:30Z | - |
| dc.date.available | 2022-04-26T03:00:30Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/295905 | - |
| dc.description.abstract | 개시된 나노 구조의 제조 방법은, 요철 구조를 갖는 위상 마스크와 감광성 필름을 접촉시키는 단계; 상기 위상 마스크의 요철 구조를 통해 상기 감광성 필름을 노광하는 단계; 및 상기 감광성 필름을 현상하여 나노 구조를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 감광성 필름을 노광하는 단계에서, 광은 상기 감광성 필름의 노광면에 기울어진 방향으로 입사된다. | - |
| dc.title | 노광 각도가 조절된 근접장 패터닝을 이용한 나노구조의 조절 및 제작 | - |
| dc.title.alternative | METHOD OF FABRICATION AND CONTROL OF NANOSTRUCTURE ARRAY BY ANGLE-RESOLVED EXPOSURE IN PROXIMITY-FIELD NANOPATTERNING | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 전석우 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 남상현 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원, 삼성전자주식회사 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2020-0048876 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-2389546-0000 | - |
| dc.date.application | 2020-04-22 | - |
| dc.date.registration | 2022-04-19 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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