노광 각도가 조절된 근접장 패터닝을 이용한 나노구조의 조절 및 제작METHOD OF FABRICATION AND CONTROL OF NANOSTRUCTURE ARRAY BY ANGLE-RESOLVED EXPOSURE IN PROXIMITY-FIELD NANOPATTERNING
개시된 나노 구조의 제조 방법은, 요철 구조를 갖는 위상 마스크와 감광성 필름을 접촉시키는 단계; 상기 위상 마스크의 요철 구조를 통해 상기 감광성 필름을 노광하는 단계; 및 상기 감광성 필름을 현상하여 나노 구조를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 감광성 필름을 노광하는 단계에서, 광은 상기 감광성 필름의 노광면에 기울어진 방향으로 입사된다.
- Assignee
- 한국과학기술원, 삼성전자주식회사
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2020-04-22
- Application Number
- 10-2020-0048876
- Registration Date
- 2022-04-19
- Registration Number
- 10-2389546-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.