낮은 유전손실을 갖는 유전체의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유전체Method for preparing dielectric having low dielectric loss and dielectric prepared thereby
본 발명은 온도에 의한 유전 특성의 변동이 좁고, 주파수에 따른 유전특성이 불변하여, 낮은 유전손실을 갖는 저유전손실의 주파수 불변의 유전체를 제조할 수 있는 유전체의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유전체에 관한 것이다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2019-03-18
- Application Number
- 10-2019-0030486
- Registration Date
- 2020-11-25
- Registration Number
- 10-2184931-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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