본 발명은 MEMS 멤브레인 구조체 제조방법에 관한 것으로, 실리콘기판 위에 실리콘산화막 댐 구조체를 형성하는 단계; 접착층을 증착 후 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 위에 표면보호막을 증착하는 단계; 상기 표면보호막과 희생층을 식각하여 실리콘산화막 댐 구조체 위에 1열 내지 3열의 트렌치를 형성하는 단계; 상기 1열 내지 3열의 트렌치 내부와 희생층의 표면보호막 위에 지지막을 증착하여 멤브레인을 형성하는 단계; 및 상기 1열에 증착된 지지막 내부의 희생층을 제거하여 빈 공간을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 포함하는 것을 특징으로 한다.