메타물질을 갖는 마스크 형성 방법METHOD FOR FORMING MASK HAVING METAMATERIAL
본 발명의 실시 형태에 따른 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법은, 자외선 투과 기판 상에 자외선 차단막을 형성하는 단계; 상기 자외선 차단막을 패터닝하여 패터닝된 자외선 차단막과 상기 자외선 투과 기판을 포함하는 마스크를 형성하는 단계; 메타물질을 미리 준비하는 단계; 및 상기 마스크에 상기 메타물질을 전사하는 단계;를 포함한다. 이러한 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법에 의하면, 마스크의 표면 구조에 관계없이 메타물질의 형태를 그대로 유지시키면서 마스크로 전사할 수 있어 마스크에 전사된 메타물질의 광 특성이 변하지 않는 이점이 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2018-03-13
- Application Date
- 2016-05-23
- Application Number
- 10-2016-0062880
- Registration Date
- 2018-03-13
- Registration Number
- 10-1839903-0000
- Appears in Collection
- ME-Patent(특허)
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