메타물질을 갖는 마스크 형성 방법METHOD FOR FORMING MASK HAVING METAMATERIAL

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dc.contributor.author민범기ko
dc.contributor.author김우영ko
dc.contributor.author김동환ko
dc.date.accessioned2019-04-15T17:34:40Z-
dc.date.available2019-04-15T17:34:40Z-
dc.date.issued2018-03-13-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/256702-
dc.description.abstract본 발명의 실시 형태에 따른 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법은, 자외선 투과 기판 상에 자외선 차단막을 형성하는 단계; 상기 자외선 차단막을 패터닝하여 패터닝된 자외선 차단막과 상기 자외선 투과 기판을 포함하는 마스크를 형성하는 단계; 메타물질을 미리 준비하는 단계; 및 상기 마스크에 상기 메타물질을 전사하는 단계;를 포함한다. 이러한 메타물질을 갖는 마스크 형성 방법에 의하면, 마스크의 표면 구조에 관계없이 메타물질의 형태를 그대로 유지시키면서 마스크로 전사할 수 있어 마스크에 전사된 메타물질의 광 특성이 변하지 않는 이점이 있다.-
dc.title메타물질을 갖는 마스크 형성 방법-
dc.title.alternativeMETHOD FOR FORMING MASK HAVING METAMATERIAL-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor민범기-
dc.contributor.nonIdAuthor김동환-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2016-0062880-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1839903-0000-
dc.date.application2016-05-23-
dc.date.registration2018-03-13-
dc.publisher.countryKO-
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ME-Patent(특허)
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