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Development of flash memory using high-k dielectrics by the improvement of charge trap layer and blocking oxide layer and its theory = 고유전막을 이용한 전하포획막과 차단산화막의 향상을 이용한 플래쉬 메모리 개발 및 그 이론link Park, Young-Min; 박영민; et al, 한국과학기술원, 2011 |
Development of high-k organic-inorganic hybrid gate dielectrics for flexible electronics via chemical vapor phase synthesis = 화학적 기상 합성법을 이용한 유연 전자 소자용 고유전율 유-무기 하이브리드 게이트 절연막 개발link Kim, Min Ju; Cho, Byung-Jin; et al, 한국과학기술원, 2021 |
In-depth study of reliability for charge-trap-type flash memory devices = 전하포획형 플래시 메모리 소자의 신뢰성에 관한 심층 연구link Park, Jong-Kyung; 박종경; et al, 한국과학기술원, 2014 |
Modeling of rapid thermal diffusion of phosphorusinto silicon and its application to VLSI fabrication = 고속열확산에 의한 실리콘 내부로의 인확산공정에 대한 모델과 VLSI 재조공정에의 응용link Cho, Byung-Jin; 조병진; et al, 한국과학기술원, 1991 |
Ultra-thin High-K Dielectrics for memory and logic device applications = 메모리 및 로직 소자용 고유전체 박막에 관한 연구link Shin, Yun-Sang; 신윤상; et al, 한국과학기술원, 2014 |
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