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(A) study on the effect of aluminum on an indium-aluminum oxide semiconductors deposited by PEALD to control the electrical and structural characteristics = 전기적 및 구조적 특성 조정을 위한, 원자층 증착법으로 증착된 인듐-알루미늄 산화물 반도체에 함유되는 알루미늄의 역할에 대한 연구link Mun, Geumbi; 문금비; Park, Sang-Hee; 박상희, 한국과학기술원, 2016 | |
(A) study on the active and gate insulator processed by plasma-enhanced atomic layer deposition in oxide thin-film transistors for the High resolution display = 고해상도 디스플레이용 산화물 박막트랜지스터를 위한 플라즈마 원자층 증착법의 활성층과 절연층에 대한 연구link Ko, Jong Beom; 고종범; Park, Sang-Hee; 박상희, 한국과학기술원, 2016 | |
(A) study on high mobility indium oxide thin films and thin-film transistors by means of plasma-enhanced atomic layer deposition = 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 고이동도 인듐 산화물 박막 및 트랜지스터 특성 연구link Yeom, Hye-In; 염혜인; Park, Sang-Hee; 박상희, 한국과학기술원, 2016 |
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