| 51 | 인가 전위와 황산 수용액의 pH가 Al-1wt.% Si-0.5wt.% Cu 합금 위에 형성된 다공질 양극 산화 피막의 Barrier Layer의 용해에 미치는 영향 = Effects of applied potential and pH on the dissolution of barrier layer of porous anodic oxide film on Al-1wt.% Si-0.5wt.% Cu alloy in aqueous $H_2SO_4$ solutionlink 김영수; Kim, Young-Soo; 변수일; Pyun, Su-Il, 한국과학기술원, 1995 |
| 52 | 구리계 반도체 리드프레임 합금의 가공열처리 공정에 의한 미세조직 및 기계적 성질의 제어 = Control of microstructure and mechanical properties by thermomechanical treatment of a Cu-base leadframe alloylink 백형길; Baik, Hyung-Gil; 홍순형; Hong, Soon-Hyung, 한국과학기술원, 1995 |
| 53 | 펄스화학기상침투법에 의한 탄소/탄소 복합재료의 치밀화에 관한 연구 = Densification of carbon/carbon composite by pulse chemical vapour infiltrationlink 정혁제; Jeong, Hyeok-Je; 박종옥; Park, Jong-Ook, 한국과학기술원, 1995 |
| 54 | 반응성 스퍼터링 방법으로 제조시 스퍼터 파라메터가 ITO 박막의특성에 미치는 영향 = Effects of sputtering parameter on properties of ITO film formed by an reactive sputteringlink 오경수; Oh, Kyung-Soo; 이택동; Lee, Taek-Dong, 한국과학기술원, 1995 |
| 55 | 급냉응고/분말야금법으로 제조한 Al-Fe-V-Si-Ti-W 합금의 고온크리ㅍ거동 및 미세조직의 열적 안정성에 관한 연구 = A study on the elevated temperature creep behavior and microstructural stability of RS/PM Al-Fe-V-Si-Ti-W alloylink 오승철; Oh, Seung-Chul; 위당문; Wee, Dang-Moon, 한국과학기술원, 1995 |
| 56 | Ni분말과 소결시킨 Ti-Mn계 수소저장합금의 전극특성에 관한 연구 = A study on the electrode characteristics of Ti-Mn alloy sintered with Ni powderlink 유지상; Yu, Ji-Sang; 이재영; Lee, Jai-Young, 한국과학기술원, 1995 |
| 57 | RF PECVD 법에 의해 증착된 TiN 박막 특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the TiN thin films deposited by RF PECVDlink 전병혁; Jun, Byung-Hyuk; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 1995 |
| 58 | 노르보넨 카르복시산 에스테르의 중합과 광분해성 = Synthesis and photolytic properties of poly(norbornene carboxylic acid esters)link 천성득; Chun, Sung-Deuk; 조의환; Cho, I-Whan, 한국과학기술원, 1995 |
| 59 | Ba 치환된 $Pb_2MgWO_6$계에서의 결정구조 및 유전특성에 관한 연구 = A study on the crystal structure and dielectric properties of Ba substituted $Pb_2MgWO_6$ systemlink 박순병; Park, Soon-Byung; 주웅길; Choo, Woong-Kil, 한국과학기술원, 1995 |
| 60 | 플라즈마 화학증착법으로 제조한 비정질 실리콘박막의 결정화 거동에 미치는 수소의 영향 = Hydrogen effects on the behavior of crystallization of amorphous silicon films prepared by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 김해열; Kim, Hae-Yeol; 이재영; Lee, Jae-Young, 한국과학기술원, 1995 |
