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(A) study on the $HfO_2/Al_2O_3$ nanolaminated thin film by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법으로 증착된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link Cha, Eun-Soo; 차은수; et al, 한국과학기술원, 2005 |
(A) study on the $La_2O_3$ and La-Al-O films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법을 이용한 $La_2O_3$ 및 La-Al-O 박막의 Gate 절연체 특성에 관한 연구link Kim, Ji-Hye; 김지혜; et al, 한국과학기술원, 2009 |
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