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(The) effect of $H_2$ plasma treatment on the film growth rate in catalytic-enhanced Cu CVD = 촉매를 이용한 Cu CVD의 증착속도에 대한 수소 플라즈마의 효과 연구link Kwon, Oh-Kyum; 권오겸; et al, 한국과학기술원, 2001 |
급속열산화법을 이용한 게이트용 산화막 성장기구에 관한 연구 = Kinetics of rapid thermal oxidation of siliconlink 심규찬; Shim, Kew-Chan; et al, 한국과학기술원, 1996 |
왕겨로 부터 Si3N4형성에 관한 속도론적 연구 = The kinetics of silicon nitride formation from korean rice hullslink 강상원; Kang, Sang-Won; et al, 한국과학기술원, 1978 |
원자층 단위 증착법으로 증착된 TiN 증착기구에 대한 모델 연구 = A study of the deposition model about ALD (atomic layer deposition) TiN methodlink 박진성; Park, Jin-Seong; et al, 한국과학기술원, 1999 |
테스트 패턴을 이용한 다결정 실리콘 박막의 열팽창 계수 측정에 관한 연구 = Measurement of thermal expansion coefficient of polycrystalline silicon thin film by micro test patternslink 채정헌; Chae, Jung-Hun; et al, 한국과학기술원, 1997 |
화학적 기계적 연마의 광학적 End-point detection 알고리즘에 관한 연구 = A study on the algorithm of optical end-point dectection for chemical mechanical polishinglink 노용주; Roh, Yong-Ju; et al, 한국과학기술원, 1998 |
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