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반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 = Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor depositionlink 김선일; Kim, Sun-Il; et al, 한국과학기술원, 2001 |
원자층 단위 증착법으로 증착된 TiN 증착기구에 대한 모델 연구 = A study of the deposition model about ALD (atomic layer deposition) TiN methodlink 박진성; Park, Jin-Seong; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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