엑스선 경사노광의 천이영역을 제거하기 위한 미세구조물제조장치 및 그 방법FABRICATION APPARATUS OF MICRO-STRUCTURE FOR REMOVINGTRANSIENT AREA OF INCLINED X-RAY EXPOSURE ANDFABRICATION METHOD THEREOF

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본 발명은 LIGA공정을 이용하여 감광성 폴리머로 구성된 미세구조물에 경사면을 형성하기 위한 장치 및 그 방법을 개시한다. 더욱 상세하게 본 발명은 노광광원인 X선을 X선 마스크에 수직하게 노광하여 미세구조물에 경사면을 형성함으로써 미세구조물의 불균일한 조도를 갖는 부분을 제거할 수 있는 X선 경사노광의 천이영역을 제거하기 위한 장치 및 그 방법을 개시한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2006-03-30
Application Date
2004-04-16
Application Number
10-2004-0026179
Registration Date
2006-03-30
Registration Number
10-0568262-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/234724
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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