엑스선 경사노광의 천이영역을 제거하기 위한 미세구조물제조장치 및 그 방법FABRICATION APPARATUS OF MICRO-STRUCTURE FOR REMOVINGTRANSIENT AREA OF INCLINED X-RAY EXPOSURE ANDFABRICATION METHOD THEREOF
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 이승섭 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:47:53Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:47:53Z | - |
| dc.date.issued | 2006-03-30 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234724 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 LIGA공정을 이용하여 감광성 폴리머로 구성된 미세구조물에 경사면을 형성하기 위한 장치 및 그 방법을 개시한다. 더욱 상세하게 본 발명은 노광광원인 X선을 X선 마스크에 수직하게 노광하여 미세구조물에 경사면을 형성함으로써 미세구조물의 불균일한 조도를 갖는 부분을 제거할 수 있는 X선 경사노광의 천이영역을 제거하기 위한 장치 및 그 방법을 개시한다. | - |
| dc.title | 엑스선 경사노광의 천이영역을 제거하기 위한 미세구조물제조장치 및 그 방법 | - |
| dc.title.alternative | FABRICATION APPARATUS OF MICRO-STRUCTURE FOR REMOVINGTRANSIENT AREA OF INCLINED X-RAY EXPOSURE ANDFABRICATION METHOD THEREOF | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 이승섭 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2004-0026179 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0568262-0000 | - |
| dc.date.application | 2004-04-16 | - |
| dc.date.registration | 2006-03-30 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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