본 발명에 의한 미세 구조체의 제조방법은, 제 1 구성층을 준비하는 단계와, 제 1 구성층에 포토레지스트층을 적층하여 포토레지스트 기판을 형성하는 단계와, 포토레지스트 기판을 패턴이 형성되어 있는 마스크를 이용하여 패턴에 따라 노광하는 단계와, 포토레지스트 기판을 현상하는 단계를 포함한다. 본 발명은 패턴 전사를 위해 구성층 위에 도포하던 종래의 개념에서 벗어나 포토레지스트를 최종 미세 구조체를 구성하는 구조물로 활용함으로써, 패터닝 및 식각에 필요한 시간을 획기적으로 단축할 수 있다.