DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 이승섭 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:47:41Z | - |
dc.date.available | 2017-12-20T11:47:41Z | - |
dc.date.issued | 2011-08-31 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234716 | - |
dc.description.abstract | 본 발명에 의한 미세 구조체의 제조방법은, 제 1 구성층을 준비하는 단계와, 제 1 구성층에 포토레지스트층을 적층하여 포토레지스트 기판을 형성하는 단계와, 포토레지스트 기판을 패턴이 형성되어 있는 마스크를 이용하여 패턴에 따라 노광하는 단계와, 포토레지스트 기판을 현상하는 단계를 포함한다. 본 발명은 패턴 전사를 위해 구성층 위에 도포하던 종래의 개념에서 벗어나 포토레지스트를 최종 미세 구조체를 구성하는 구조물로 활용함으로써, 패터닝 및 식각에 필요한 시간을 획기적으로 단축할 수 있다. | - |
dc.title | 포토레지스트 구조물을 갖는 미세 구조체 및 그 제조방법 | - |
dc.title.alternative | MICROSTRUCTURE HAVING PHOTORESIST STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 이승섭 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0008274 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1062691-0000 | - |
dc.date.application | 2009-02-03 | - |
dc.date.registration | 2011-08-31 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
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