나노 마스크를 이용한 소자의 표면처리 방법Surface Treatment Method of a Device using Nano Mask

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나노 마스크를 이용한 소자의 표면 처리 방법에 대해 개시된다. 개시된 표면 처리 방법은 구조체 및 나노 입자들 사이에 정전기적 인력이 작용하도록 하여 구조체 표면에 나노 입자를 용이하게 결합하도록 하여 건식 식각 공정에 의해 구조체 표면에 굴곡 형상을 형성할 수 있다.
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2016-03-04
Application Date
2009-12-31
Application Number
10-2009-0136218
Registration Date
2016-03-04
Registration Number
10-1602412-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/231883
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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