나노 마스크를 이용한 소자의 표면처리 방법Surface Treatment Method of a Device using Nano Mask
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 조용훈 | ko |
| dc.contributor.author | 고영호 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T08:26:57Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T08:26:57Z | - |
| dc.date.issued | 2016-03-04 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/231883 | - |
| dc.description.abstract | 나노 마스크를 이용한 소자의 표면 처리 방법에 대해 개시된다. 개시된 표면 처리 방법은 구조체 및 나노 입자들 사이에 정전기적 인력이 작용하도록 하여 구조체 표면에 나노 입자를 용이하게 결합하도록 하여 건식 식각 공정에 의해 구조체 표면에 굴곡 형상을 형성할 수 있다. | - |
| dc.title | 나노 마스크를 이용한 소자의 표면처리 방법 | - |
| dc.title.alternative | Surface Treatment Method of a Device using Nano Mask | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 조용훈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 고영호 | - |
| dc.contributor.assignee | 삼성전자주식회사,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0136218 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1602412-0000 | - |
| dc.date.application | 2009-12-31 | - |
| dc.date.registration | 2016-03-04 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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