나노 마스크를 이용한 소자의 표면처리 방법Surface Treatment Method of a Device using Nano Mask

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dc.contributor.author조용훈ko
dc.contributor.author고영호ko
dc.date.accessioned2017-12-20T08:26:57Z-
dc.date.available2017-12-20T08:26:57Z-
dc.date.issued2016-03-04-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/231883-
dc.description.abstract나노 마스크를 이용한 소자의 표면 처리 방법에 대해 개시된다. 개시된 표면 처리 방법은 구조체 및 나노 입자들 사이에 정전기적 인력이 작용하도록 하여 구조체 표면에 나노 입자를 용이하게 결합하도록 하여 건식 식각 공정에 의해 구조체 표면에 굴곡 형상을 형성할 수 있다.-
dc.title나노 마스크를 이용한 소자의 표면처리 방법-
dc.title.alternativeSurface Treatment Method of a Device using Nano Mask-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor조용훈-
dc.contributor.nonIdAuthor고영호-
dc.contributor.assignee삼성전자주식회사,한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2009-0136218-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1602412-0000-
dc.date.application2009-12-31-
dc.date.registration2016-03-04-
dc.publisher.countryKO-
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PH-Patent(특허)
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