패턴 형성 방법Method of forming pattern

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패턴 형성 방법을 제공한다. 이 방법에서는, 서로 다른 표면 성질을 나타내는 제 1 영역과 제 2 영역을 가지는 자기 조립 유도층 상에 블록 공중합체층을 형성하고 상분리를 시켜, 원기둥 형태의 제 1 패턴과 눕혀진 반원기둥 형태의 제 2 패턴을 형성할 수 있다. 상기 제 1 영역과 제 2 영역의 선폭은 포토리소 그라피 공정에서 구현할 수 있는 최소의 선폭일 수 있으며, 상기 제 1 패턴과 상기 제 2 패턴은 각각 제 1 영역과 제 2 영역에서, 각각 제 1 영역과 제 2 영역의 선폭보다 작은 선폭을 가지도록 형성될 수 있다. 상기 제 1 패턴과 상기 제 2 패턴을 식각 마스크로 이용하여 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 이로써, 포토리소그라피 공정에서 구현할 수 있는 최소의 선폭보다 작은 선폭을 가지는 미세한 패턴을 형성할 수 있다. 또한 라인 형태와 섬 형태의 패턴을 동시에 형성할 수 있다. 패턴 형성, 자기조립 유도층, 블록공중합체
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2016-03-07
Application Date
2009-10-07
Application Number
10-2009-0095268
Registration Date
2016-03-07
Registration Number
10-1602942-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/231784
Appears in Collection
MS-Patent(특허)
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