패턴 형성 방법Method of forming pattern
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김상욱 | ko |
| dc.contributor.author | 윤동기 | ko |
| dc.contributor.author | 이시용 | ko |
| dc.contributor.author | 김경선 | ko |
| dc.contributor.author | 최성운 | ko |
| dc.contributor.author | 오석환 | ko |
| dc.contributor.author | 박승학 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T08:14:27Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T08:14:27Z | - |
| dc.date.issued | 2016-03-07 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/231784 | - |
| dc.description.abstract | 패턴 형성 방법을 제공한다. 이 방법에서는, 서로 다른 표면 성질을 나타내는 제 1 영역과 제 2 영역을 가지는 자기 조립 유도층 상에 블록 공중합체층을 형성하고 상분리를 시켜, 원기둥 형태의 제 1 패턴과 눕혀진 반원기둥 형태의 제 2 패턴을 형성할 수 있다. 상기 제 1 영역과 제 2 영역의 선폭은 포토리소 그라피 공정에서 구현할 수 있는 최소의 선폭일 수 있으며, 상기 제 1 패턴과 상기 제 2 패턴은 각각 제 1 영역과 제 2 영역에서, 각각 제 1 영역과 제 2 영역의 선폭보다 작은 선폭을 가지도록 형성될 수 있다. 상기 제 1 패턴과 상기 제 2 패턴을 식각 마스크로 이용하여 원하는 패턴을 형성할 수 있다. 이로써, 포토리소그라피 공정에서 구현할 수 있는 최소의 선폭보다 작은 선폭을 가지는 미세한 패턴을 형성할 수 있다. 또한 라인 형태와 섬 형태의 패턴을 동시에 형성할 수 있다. 패턴 형성, 자기조립 유도층, 블록공중합체 | - |
| dc.title | 패턴 형성 방법 | - |
| dc.title.alternative | Method of forming pattern | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김상욱 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 윤동기 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이시용 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김경선 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 최성운 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 오석환 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박승학 | - |
| dc.contributor.assignee | 삼성전자주식회사,한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0095268 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1602942-0000 | - |
| dc.date.application | 2009-10-07 | - |
| dc.date.registration | 2016-03-07 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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