중공 전극을 가지는 방전셀에서 플라즈마를 발생하는 소자Micro Plasma Device with Hollow Cathode Structure

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본 발명은 중공 음극 소자(hollow cathode device)의 구조를 이용하여 효율적으로 플라즈마를 발생하는 소자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 플라즈마 발생 소자는, 전면기판과 배면기판 중 적어도 어느 하나에 중공을 형성하고, 상기 전면기판에 포함된 제1 금속전극과 배면기판에 포함된 제2 금속전극 사이의 상기 중공에서 형성되는 전기장을 이용하여 플라즈마를 효율적으로 발생할 수 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2009-07-03
Application Date
2007-10-26
Application Number
10-2007-0108110
Registration Date
2009-07-03
Registration Number
10-0907324-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/230245
Appears in Collection
EE-Patent(특허)
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