SiO2 나노입자가 코팅된 표면에서의 풀 비등 특성

Abstract

비등 열전달은 가장 효율적인 열전달 모드이기 때문에, 이에 대해 많은 연구가 진행되어왔다. 최근 연구에서는 비등 열전달 계수를 파악하기 위해 나노입자 코팅이 된 표면을 사용하거나 나노유체를 사용하고 있다. 또한, 이밖에도 비등 열전달 계수 예측을 위한 많은 기술들이 개발되고 있다. 핵 생성 지점 같은 표면 특성이 비등 열전달 특성 파악에 중요한 요인이다. 따라서 본 연구에서는 SiO2 나노입자가 코팅된 표면에서의 풀 비등 특성을 이해하는 것이 목적이다. 이 표면은 가로 약 1000 ~4000 nm, 깊이 약 40nm 의 매우 얕은 cavity 를 가지고, 이것은 핵 생성 지점의 역할을 하지 못했다. 또한, 본 연구에 따르면 이 표면은 코팅하지 않은 표면보다 hydrophilic 한 성질을 가진다. Hydrophlic 한 표면은 hydrophobic 한 표면보다 필요한 과열도가 크기 때문에 비등 열전달 계수가 감소하였다.