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A study on the step coverage modeling of thin films in atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 박막의 단차 피복성 예측을 위한 모델링에 관한 연구link Kim, Ja-Yong; 김자용; et al, 한국과학기술원, 2007 |
ECR 플라즈마 기상화학증착법으로 제조한 초고집적회로 금속화공정의 확산방지용 TiN 박막의 특성 = The characteristics of TiN thin films prepared by ECR-PECVD as a diffusion barrier layer in ULSI metallization processlink 김종석; Kim, Jong-Seok; et al, 한국과학기술원, 1997 |
ECR-PEMOCVD법으로 제조한 $SrTiO_3$ 박막의 단차 피복성에 관한 연구 = A study on the step coverage of $SrTiO_3$ thin films fabricated using ECR-PEMOCVDlink 박순연; Park, Soon-Yon; et al, 한국과학기술원, 2000 |
LPCVD 공정의 3차원 증착형상 예측을 위한 전산모사 = Simulation for the 3-D deposition topography of LPCVD processlink 권의희; Kwon, Ui-Hui; et al, 한국과학기술원, 2000 |
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