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(A) study on the characteristics of TaN films deposited by ALD using hydrogen plasma = 수소 플라즈마를 이용한 ALD 법으로 증착된 TaN 박막 특성에 관한 연구link Lee, Min-Jung; 이민정; et al, 한국과학기술원, 2001 |
DMEAA source를 이용한 Al-MOCVD mechanism 및 특성에 관한 연구 = A study on the Al-MOCVD mechanism and characteristics using DMEAA sourcelink 장태웅; Jang, Tae-Woong; et al, 한국과학기술원, 1998 |
(The) effect of $H_2$ plasma treatment on the film growth rate in catalytic-enhanced Cu CVD = 촉매를 이용한 Cu CVD의 증착속도에 대한 수소 플라즈마의 효과 연구link Kwon, Oh-Kyum; 권오겸; et al, 한국과학기술원, 2001 |
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