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광-CVD와 ECR-CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제작 및 특성 평가 = Fabrication and characterization of amorphous silicon thin film transistor using photo-CVD and ECR-CVD methodlink 강태웅; Kang, Tae-Woong; et al, 한국과학기술원, 1996 |
플라즈마 CVD 방법으로 저온 성장한 다중벽 탄소 나노튜브의 형태와 특성 = Shape and characteristics of multi walled carbon nanotube grown at low temperature uisng plasma CVD methodslink 우윤성; Woo, Yun-Sung; et al, 한국과학기술원, 2003 |
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