이중 주파수 축전 결합 플라즈마에 관한 연구 = A study on dual frequency capacitively coupled plasma(DFCCP)

본 실험에서는 이중 주파수 축전 결합 플라즈마 장비에서 플라즈마 변수들을 측정하여 실제 높은 주파수와 낮은 주파수가 하는 물리적 역할을 알아보고, 플라즈마 밀도와 이온 충돌 에너지를 독립적으로 제어하기 위한 조건을 찾는데 그 목적을 두고 있다. 실험에 사용된 장비는 2Mhz와 27Mhz를 사용한 이중 주파수 축전결합 플라즈마 장비 이고, 플라즈마 진단을 위해서 RF 보상 랑뮤어 탐침을 사용하였으며, 전체 파워가 350W 미만인 낮은 파워 영역에서 실험이 진행 되었다.
Advisors
장홍영researcherChang, Hong-Youngresearcher
Publisher
한국과학기술원
Issue Date
2004
Identifier
240280/325007  / 020023340
Language
kor
Description

학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과, 2004.8, [ iv, 38 p. ]

Keywords

SBS; pre-pulse; waveform; pulse shape; Dual Frequency Plasmascattering; 전단펄스; 이중 주파수 플라즈마파형

URI
http://hdl.handle.net/10203/48677
Link
http://library.kaist.ac.kr/search/detail/view.do?bibCtrlNo=240280&flag=t
Appears in Collection
PH-Theses_Master(석사논문)
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