패턴 형성 방법METHOD OF FORMING PATTERN

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본 발명은 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 기판 상에 나노스크래치를 형성하는 단계; 및 상기 나노스크래치가 형성된 기판 상에 블록 공중합체를 도포하여 자기조립을 유도하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 나노스크래치가 형성된 기판 상에 블록 공중합체의 자기조립을 유도하여 다양한 기판 상에 대면적으로 나노 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 나노스크래치로 패턴을 형성하기 때문에 다양한 방향으로 조절하여 패턴을 형성할 수 있다.
Assignee
한국과학기술원, 울산과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2021-01-13
Application Number
10-2021-0004337
Registration Date
2023-08-28
Registration Number
10-2573030-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/313337
Appears in Collection
CH-Patent(특허)
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