플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 Plasma generation apparatus and substrate processing apparatus

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본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다.
Assignee
주식회사 윈텔,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2013-03-15
Application Date
2011-10-13
Application Number
10-2011-0104792
Registration Date
2013-03-15
Registration Number
10-1246191-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/235273
Appears in Collection
PH-Patent(특허)
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