선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법

Abstract

본 발명은 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 방법에 관한 것으로, 선이광자흡수영역의 형광을 이용한 이광자 광중합 나노제작 시스템용 자동 초점 시스템에 있어서, 이광자 흡수 현상을 일으킬 수 있는 극초단 펄스 레이저광을 출력하는 레이저 소스, 상기 확장된 레이저광의 경로를 변경시켜주는 갈바노셔터, 상기 레이저 소스에 의해 출력된 레이저광을 반사하여 경로를 변경하는 미러, 상기 미러로부터 반사된 반사광의 초점을 형성하기 위한 대물렌즈, 상기 초점에 의해 제작 공정이 시작되는 기판과, 이광자 광중합을 일으켜 마이크로/나노 구조물을 형성하기 위한 기판 위의 이광자 광중합 레진을 포함하는 기판부, 상기 기판부를 X, Y, Z축으로 이동시키는 스테이지, 상기 기판부의 이광자 광중합 레진에서 발생하는 형광의 세기를 검출하는 CCD 카메라 및 상기 CCD 카메라에서 검출된 형광의 세기를 이용하여 초점의 위치를 자동으로 탐색하고, 상기 기판부의 기판을 탐색된 위치로 이동시키기 위하여 상기 3축 이동 스테이지의 위치를 자동 조절하는 제어컴퓨터를 포함하는 것을 특징으로 한다.