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Cu 확산방지용 TCP MOCVD Ta(Si)N 박막 증착 및 특성에 관한 연구 = Deposition and characterization of TCP MOCVD Ta(Si)N thin films as diffusion barrier for Culink 박혜련; Park, Hye-Lyun; et al, 한국과학기술원, 2002 |
고집적 FRAM용 LSCO/Ir/TaSiN 하부전극의 안정성에 관한 연구 = Stability of TaSiN diffusion barrier with LSCO/Ir hybrid bottom electrode for FRAM applicationlink 김명선; Kim, Myung-Sun; et al, 한국과학기술원, 2001 |
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