전자선 석판 기술에서 디지타이징과 노광후굽기 최적화를 통한 40 nm 급 패턴 제작에 관한 연구Study on 40nm Electron Beam Patterning by Optimization of Digitizing Method and Post Exposure Bake
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 한상연 | ko |
| dc.contributor.author | 신형철 | ko |
| dc.contributor.author | 이귀로 | ko |
| dc.date.accessioned | 2013-02-28T05:23:54Z | - |
| dc.date.available | 2013-02-28T05:23:54Z | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.issued | 1999-10 | - |
| dc.identifier.citation | 전자공학회논문지D, v.36, no.10, pp.23 - 30 | - |
| dc.identifier.issn | 1975-2377 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/72990 | - |
| dc.language | Korean | - |
| dc.publisher | 대한전자공학회 | - |
| dc.title | 전자선 석판 기술에서 디지타이징과 노광후굽기 최적화를 통한 40 nm 급 패턴 제작에 관한 연구 | - |
| dc.title.alternative | Study on 40nm Electron Beam Patterning by Optimization of Digitizing Method and Post Exposure Bake | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.type.rims | ART | - |
| dc.citation.volume | 36 | - |
| dc.citation.issue | 10 | - |
| dc.citation.beginningpage | 23 | - |
| dc.citation.endingpage | 30 | - |
| dc.citation.publicationname | 전자공학회논문지D | - |
| dc.contributor.localauthor | 이귀로 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 한상연 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 신형철 | - |
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